不銹鋼真空反應罐,堅(jiān)固耐用。真空管路採用不銹鋼連節,方便(biàn)維護(hù)及保養。
1.2米大直徑真空反(fǎn)應罐,單次鍍膜數量多, 也能滿(mǎn)足大型工件的鍍膜需求。
側開式門設計便於取放(fàng)產品與腔體清潔等維護作業。
反(fǎn)應(yīng)罐(guàn)內置轉盤機構使產(chǎn)品在鍍膜過程中轉動,鍍層更均勻。
使用(yòng)數位LED真空計(jì)顯示工作真空度。
操作(zuò)簡易,可依實際需求變換自(zì)動 /手動操作模式(shì)。
紅外線加熱圈,加溫速度快(kuài)。
採用高精度溫控裝置多段控(kòng)溫,溫控精確。
定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能
自診功能和各種故障報警。
運用(yòng)範圍
真空氣相沉積設備是一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(wù)(長鏈性高分子材料,一(yī)般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真(zhēn)空(kōng)反(fǎn)應室,借助空間氣相化(huà)學反應, 在產品表麵上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無(wú)應(yīng)力、優異的電絕緣性和防(fáng)護性、防(fáng)潮(cháo)、防(fáng)黴、防腐、防鹽霧(wù)的薄膜塗(tú)層。
廣泛應用於:航空(kōng)航太、電路板、LED 、磁(cí)性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物(wù)等領域產(chǎn)品的防水封裝與保護工藝中。
產品規格
設(shè)備總尺寸 ( 寬度(dù) , 深(shēn)度 , 高度 ) / 重量 | 3000 mm x 1420 mm x 1620mm |
反應罐體外徑 | ø1210 mm x 1240 mm |
反應罐罐口尺(chǐ)寸 | 890 mm x 1200 mm |
輸入電壓 | 三相 380 VAC / 50 Hz |
設備最大功率 | 15 Kw |
溫(wēn)控分(fèn)區 | 6 |
分解爐溫控範圍 | 室溫至700℃ |
昇華爐溫控範圍 | 室溫到150℃ |
原料門溫控範圍 | 室溫到250℃ |
製冷壓縮機功率 | 1000 W |
製冷量 | 887 W |
最低製冷(lěng)溫度(dù) | -90℃ |
真空泵型號 | 2RH 090C |
真空泵抽氣速率 | 90 m³ |
最大真空(kōng)壓力(lì) | ≤ 5 Pa |
真空泵電機功率 | 3.7 KW (三相380VAC) |
真(zhēn)空泵電機轉速 | 1440 R/Min |
控(kòng)製係統 | 10 ”人機介麵,PLC 控製 |
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