CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相設備
側式真空氣相鍍(dù)膜(mó)設備

LPMS CVD12

側式真空氣相鍍膜設備(bèi)

  • 不銹鋼真空反應罐,堅(jiān)固耐用。真空管路採用不銹鋼連節,方便(biàn)維護(hù)及保養。

  • 1.2米大直徑真空反(fǎn)應罐,單次鍍膜數量多, 也能滿(mǎn)足大型工件的鍍膜需求。

  • 側開式門設計便於取放(fàng)產品與腔體清潔等維護作業。

  • 反(fǎn)應(yīng)罐(guàn)內置轉盤機構使產(chǎn)品在鍍膜過程中轉動,鍍層更均勻。

  • 使用(yòng)數位LED真空計(jì)顯示工作真空度。

  • 操作(zuò)簡易,可依實際需求變換自(zì)動 /手動操作模式(shì)。

  • 紅外線加熱圈,加溫速度快(kuài)。

  • 採用高精度溫控裝置多段控(kòng)溫,溫控精確。

  • 定時加熱、超溫報警和自動停止加熱等保護功能

  • 自診功能和各種故障報警。


標籤:   派瑞林 Parylene 真空氣相沉(chén)積設備

運用(yòng)範圍

       真空氣相沉積設備是一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(wù)(長鏈性高分子材料,一(yī)般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真(zhēn)空(kōng)反(fǎn)應室,借助空間氣相化(huà)學反應, 在產品表麵上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無(wú)應(yīng)力、優異的電絕緣性和防(fáng)護性、防(fáng)潮(cháo)、防(fáng)黴、防腐、防鹽霧(wù)的薄膜塗(tú)層。

    廣泛應用於:航空(kōng)航太、電路板、LED 、磁(cí)性材料、感測器、矽橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物(wù)等領域產(chǎn)品的防水封裝與保護工藝中。



產品規格

設(shè)備總尺寸 ( 寬度(dù) , 深(shēn)度 , 高度 ) / 重量

3000 mm x 1420 mm x 1620mm

反應罐體外徑

ø1210 mm x 1240 mm

反應罐罐口尺(chǐ)寸

890 mm x 1200 mm

輸入電壓

三相 380 VAC / 50 Hz

設備最大功率

15 Kw

溫(wēn)控分(fèn)區

6

分解爐溫控範圍

室溫至700℃

昇華爐溫控範圍

室溫到150℃

原料門溫控範圍

室溫到250℃

製冷壓縮機功率

1000 W

製冷量

887 W

最低製冷(lěng)溫度(dù)

-90℃

真空泵型號

2RH 090C

真空泵抽氣速率

90 m³

最大真空(kōng)壓力(lì)

≤ 5 Pa

真空泵電機功率

3.7 KW (三相380VAC)

真(zhēn)空泵電機轉速

1440 R/Min

控(kòng)製係統

10 ”人機介麵,PLC 控製



標籤:   派瑞林 Parylene 真空氣相沉積設備
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