CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相設備
緊湊(còu)型側式真空氣相(xiàng)沉積設備

LPMS CVD05

緊湊型側式真空氣相沉積(jī)設備

  • 0.5米不銹鋼真空反應罐,堅固耐(nài)用,鍍膜速度快。

  • 機台一體式(shì)設計,結構緊湊,占(zhàn)地小。

  • 真空管路採用不銹(yòu)鋼連節,方便維(wéi)護(hù)及保(bǎo)養

  • 側開式設計便於取放產品與腔體清潔等(děng)維護作業

  • 反應罐內置轉盤機構使產品在鍍膜過程中(zhōng)勻速旋轉,鍍層更均勻。

  • 使用數位LED真空計顯示工作狀況時的真空度。

  • 操作簡易,可依實際需求變換自動 /手動操作模式

  • 紅外線加熱圈,加溫(wēn)速度快。

  • 採用高精度溫控裝置多段控溫,溫控精確。

  • 定(dìng)時加熱、超溫報警和自(zì)動停止加熱等保護功能

  • 自診功能和各種故障報警

  • 選配遠程控製和手機APP功能。



標籤:   派瑞林 Parylene 真空氣相沉積設備

運(yùn)用範圍(wéi)

       真(zhēn)空(kōng)氣(qì)相沉積設(shè)備是(shì)一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構(gòu)成薄膜(mó)元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般(bān)為派瑞林Parylene)、單質氣體經過昇華、熱(rè)解後進入放置產品的真空反應室(shì),借助空間氣相化學反應, 在產品表麵上沉積生成0.1-100um的厚度(dù)均勻,無應(yīng)力、優異(yì)的電絕緣性和(hé)防護性、防潮、防黴、防腐、防(fáng)鹽霧(wù)的薄膜塗層(céng)。

    廣泛應用於(yú):航空航太、電路板、LED 、磁性材料(liào)、感(gǎn)測器、矽橡膠、密封件、醫療器(qì)械、珍貴文物等領域產品的防水封裝與保護工(gōng)藝中。



產品規(guī)格

設備總(zǒng)尺(chǐ)寸 ( 寬(kuān)度 , 深度(dù) , 高(gāo)度 )

1170 mm x 1860 mm x 1970mm

反應罐(guàn)體內尺寸

Ø500 mm x 600 mm

反(fǎn)應罐罐口尺寸(cùn)

454 mm x 600 mm

輸入電壓

三相380 VAC / 50 Hz

設備最大功率

15 Kw

溫(wēn)控分區

6

分解爐溫控範圍

室溫至(zhì)700℃

昇華爐溫控範圍

室溫到150℃

原料門溫控範圍

室溫到250℃

製(zhì)冷壓(yā)縮機功率

1000 W

製冷量(liàng)

887 W

最(zuì)低製冷溫度

-90℃

真空泵型號

2RH 030C

真空泵抽氣速率

30 m³

最大真空壓(yā)力

5 Pa

真空(kōng)泵電機功率

1.1 KW (三相380VAC)

真空泵電機(jī)轉速

1420 R/Min

控製係統

10 ”人機介麵,PLC 控製

遠程控(kòng)製和APP

選配



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