真空化學氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡稱CVD), 俗稱（chēng）：真空氣相鍍膜，納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把（bǎ）含有（yǒu）構（gòu）成薄膜元素的長鏈性高分子材料（liào）（派瑞林Parylene等（děng））、單質氣體經過（guò）昇華、熱解後（hòu）進入放置（zhì）產品的真空反應室，借助空間氣相化學反應（yīng）並在產品表麵上沉積（jī）生成的0.1-100um薄膜塗層的工藝技術。薄膜塗層厚度均勻，緻密無針孔、透明無應力（lì）、不含助劑、不損傷產品、有優異的電絕緣性和防護性，是（shì）當代最有效的防潮、防黴、防腐、防鹽霧塗層材料。     

CVD派瑞林真空氣相鍍膜流程

隨著時代的發展，電（diàn）子（zǐ）產品技（jì）術的不斷革新。高新技術與智能化的發展（zhǎn），精密的（de）電子設備元件（jiàn）需要適應各種惡劣的工作環境，達到工業對其更高的要求：高可靠，小型化，抗（kàng）幹擾等等（děng）。因此，電子零（líng）部件的環境適應性和防護力就（jiù）成了重中（zhōng）之重。

LPMS為（wéi）適應現有市場需求, 通過開發創新，成功的將派（pài）瑞林鍍膜（mó）技術運用到電子產品行業。我們（men）在材料、工藝和設備方麵的專有技術使我們能夠為客戶帶來高質量的超薄與納米（mǐ）級保形塗層，其（qí）成就在行業得到認（rèn）可（kě）。