CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
CVD真空氣相沉(chén)積工藝(yì)特點
             
  • 生物相容性(用於各種植入物和其他醫療器械),符合FDA(ClassVI). 符合(hé)美軍標MIL I-46058C。


  • 納米塗層滲透力強,360度無死角,可滲入SMD器件底部,全(quán)方位(wèi)覆蓋PCB和電子元件器(qì),塗層完整、連續(xù)、無針(zhēn)孔、厚度均(jun1)勻。


  • 具有高介電強度和低介電常數(shù),超薄的絕緣層,能耐(nài)高電壓(yā)。 


  • 室溫下生成納米鍍膜層,對塗覆敏感部件(jiàn)沒有熱應力。 


  • 疏水薄膜,表面能量低,良好的幹膜潤滑性。 

             
  • 高度共形 - 可(kě)在尖角上覆膜並穿透小毛孔,不會形成彎月面,也不會聚集或遮擋精(jīng)細的圖形。


  • 塗層化學惰性(無反應性),具有很高的耐化學(xué)性(酸堿鹽,溶劑)及極端的耐(nài)高低溫性(-60°C至200°C)

 

  • 透氣性非常(cháng)低(dī),不含針(zhēn)孔(kǒng),防潮防水性(可達IP68)。


  • 抗輻(fú)射,可用於航空航太及γ射線和電子束滅菌。 

 

  • 光(guāng)學透明,無色。可用於上光學元件和照明無件。

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